特許

J-GLOBAL ID：200903001697051190

Al合金系ターゲットおよびその製造方法

発明者： 高島 洋
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-211327
公開番号（公開出願番号）：特開平11-043765
出願日： 1997年07月22日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：

【要約】【課題】 共晶組織形成可能元素を含有するAl合金ターゲットにおいて欠陥が著しく少ない、すなわちスプラッシュの発生を防止できるターゲットを提供することにある。【解決手段】 本発明はAl相と、AlとAlとの共晶組織形成可能元素で構成される共晶組織相とからなるミクロ組織からなるAl合金ターゲットである。好ましくは、Alとの共晶組織形成可能元素1種以上を含有するAl合金において、共晶組織相とAl相からなるミクロ組織を有し、前記共晶組織の最大長径が200μm以下になるよう調整する。

請求項（抜粋）：

Al相と、AlとAlとの共晶組織形成可能元素で構成される共晶組織相とからなるミクロ組織からなることを特徴とするAl合金系ターゲット。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  H01L 21/285 ,  H01L 29/43

FI (3件)：

C23C 14/34 A ,  H01L 21/285 S ,  H01L 29/46 L