特許
J-GLOBAL ID：200903001702222321
物品を制御可能に加熱するための加熱装置及びその加熱方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-541310
公開番号（公開出願番号）：特表2005-508097
出願日： 2002年10月24日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：
物品を制御可能に加熱する加熱装置は、物品を保持する処理チャンバを構成し、ハウジング及びEMF発生器を備えている。ハウジングは処理チャンバの少なくとも一部を取り囲むサセプタ部分と、サセプタ部分と処理チャンバの間に挿入された導体部分を有している。EMF発生器は、サセプタ部分内では渦電流を誘導させ、導体部分では実質上いかなる渦電流も誘導されないように動作可能である。導体部分は、熱をサセプタ部分から処理チャンバへ伝導させるように動作する。加熱装置は、さらにプラッタと、導体部分内に形成された開口部とを有し、開口部はサセプタ部分とプラッタの間に挿入されている。
請求項（抜粋）：
物品を制御可能に加熱するための加熱装置であって、前記加熱装置は前記物品を保持する処理チャンバを構成し、
a)前記処理チャンバの少なくとも一部分を取り囲むサセプタ部分と、
該サセプタ部分と前記処理チャンバの間に挿入された導体部分とを有するハウジングと、
b)前記導体部分では実質上いかなる渦電流も誘導されないように、前記サセプタ部分内に渦電流を誘導させるよう動作可能なEMF発生器とを備え、
c)前記導体部分は、前記サセプタ部分から前記処理チャンバへ熱を伝導させるように動作することを特徴とする加熱装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/205
, H05B6/10 331
3K059AA08
, 3K059AB26
, 3K059AC10
, 3K059AC54
, 3K059AD05
, 3K059CD72
, 5F045AB06
, 5F045AC01
, 5F045AC07
, 5F045BB16
, 5F045DP15
, 5F045DQ10
, 5F045EK03
