走査型露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平木祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-207166
公開番号（公開出願番号）：特開平10-050582
出願日： 1996年08月06日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：

【要約】【課題】投影光学系のフォーカス変動に自動的に追従することのできるAFセンサを備えた走査型露光装置を提供する。【解決手段】ブラインド13で遮光された投影光学系PLの領域を介して走査露光領域23の直前の計測点で焦点位置を求める。AFセンサの光源36から発せられた検出光は、スリット板38のスリットを透過し、回動可能な選択ミラー41又は反射ミラー45で反射されて投影光学系PLに入射し、露光領域23の直前の先読み領域50A又は50Bの計測点を照射する。計測点からの反射光は検出器43で受光され、焦点位置が検出される。主制御系30は、検出結果に基づきアクチュエータ26A〜26Cを駆動して焦点位置を調整する。

請求項（抜粋）：

所定形状の照明領域で照明されたマスクの像を投影光学系を介して感光基板上の露光領域に投影した状態で、前記マスク及び前記感光基板を前記投影光学系に対して所定の方向に同期して走査することにより、前記マスクのパターン像を前記感光基板上に逐次転写する走査型露光装置において、前記投影光学系を介して前記感光基板上の露光領域の走査方向前方に検出光を照射する検出光照射手段と、前記感光基板で反射された検出光を前記投影光学系を介して受光して前記感光基板の焦点位置を検出する焦点位置検出手段と、前記焦点位置検出手段の検出信号により前記感光基板の前記投影光学系の光軸方向位置を調整する焦点位置調整手段を備えることを特徴とする走査型露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 526 A

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