特許
J-GLOBAL ID:200903001715833745

有機物除去装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-099065
公開番号(公開出願番号):特開平5-299401
出願日: 1992年04月20日
公開日(公表日): 1993年11月12日
要約:
【要約】【目的】半導体装置の製造過程において、半導体基板表面上の有機物を除去する工程において完全に除去することを目的とする。【構成】紫外線ランプ(以下UVランプと呼ぶ)6及び酸素供給管7、シャッター8を有するUVオゾン槽4を有機物除去槽の最終段に設置する。【効果】有機溶剤の入った槽1及び2で除去出来なかった微量の有機物も、完全に除去する事が可能となる。
請求項(抜粋):
半導体基板表面上の有機物を溶剤によって溶かす手段と、前記溶かされた有機物をオゾンと反応させて除去する手段とを有することを特徴とする有機物除去装置。
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開平1-111337
  • 特開昭61-088530

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