特許
J-GLOBAL ID:200903001724273434

磁気記録媒体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宇高 克己
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-194351
公開番号(公開出願番号):特開平10-041177
出願日: 1996年07月24日
公開日(公表日): 1998年02月13日
要約:
【要約】【課題】 支持体の厚さが薄い場合においても均一な磁性膜が得られ、そして成膜に際して支持体の走行性の低下や、支持体の熱による損傷を抑制できる磁気記録媒体の製造方法を提供することである。【解決手段】 磁性材料源に電子ビームを照射し、蒸発した粒子を走行する支持体上に斜め蒸着させることにより磁性膜を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記支持体は厚さが2〜6μmであり、前記電子ビームの照射方向と前記支持体の走行方向とは逆方向であり、かつ、前記電子ビームの偏向角が60°〜95°である磁気記録媒体の製造方法。
請求項(抜粋):
磁性材料源に電子ビームを照射し、蒸発した粒子を走行する支持体上に斜め蒸着させることにより磁性膜を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記支持体は厚さが2〜6μmであり、前記電子ビームの照射方向と前記支持体の走行方向とは逆方向であり、かつ、前記電子ビームの偏向角が60°〜95°であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (3件):
H01F 41/20 ,  C23C 14/30 ,  G11B 5/85
FI (3件):
H01F 41/20 ,  C23C 14/30 B ,  G11B 5/85 A

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