特許

J-GLOBAL ID：200903001726595820

磁気記録媒体用硬質基板の洗浄方法

発明者： 田村 孝司
出願人/特許権者： 富士電機株式会社
代理人 (1件)： 篠部 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-114488
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306234
出願日： 1999年04月22日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】磁気記録媒体用硬質基板表面を数十Å程度以下の低ヘッド浮上量が実現できるような磁気記録媒体が得られるように清浄化できる洗浄方法を提供する。【解決手段】硬質部材板上にNi-P膜を形成しその表面にテクスチャーを形成された硬質基板の洗浄方法に、低周波超音波洗浄工程を含ませる。例えば、基板表面をスクラブ洗浄した後、アルカリ洗剤溶液中で20kHz〜50kHzの低周波超音波で超音波洗浄を行い、続いて、通常行われる温純水洗浄,純水洗浄,超純水シャワーを順次行った後、IPAベーパーを用いて乾燥する洗浄方法を適用する。

請求項（抜粋）：

硬質部材板上にNi-P膜を形成しその表面に凹凸を形成するためのテクスチャー加工を行った磁気記録媒体用硬質基板の洗浄方法において、液中で低周波超音波を用いて前記基板表面を超音波洗浄する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体用硬質基板の洗浄方法。

IPC (3件)：

G11B 5/84 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/12

FI (3件)：

G11B 5/84 A ,  B08B 3/08 A ,  B08B 3/12 B

Fターム (19件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201BA02 ,  3B201BA08 ,  3B201BA12 ,  3B201BB82 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  5D112AA02 ,  5D112AA11 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA04 ,  5D112EE01 ,  5D112GA08 ,  5D112GA09 ,  5D112GA30