特許
J-GLOBAL ID：200903001727262042
リフロー炉
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 長七 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-174165
公開番号（公開出願番号）：特開平6-021643
出願日： 1992年07月01日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：
【要約】【目的】 チップ部品の配置や配線導体の配置により測定温度にばらつきがあっても適切な制御をする。【構成】 コンベア1によりプリント配線基板2を搬送し、加熱された炉内でプリント配線基板2に塗布された半田を溶融し、設置されたチップ部品をプリント配線基板2に半田付けする。コンベア1により搬送されたプリント配線基板2に対応して赤外線温度計のような放射温度計5でコンベア1の速度に応じて所定の時間間隔で温度を測定する。測定されたプリント配線基板2上の複数箇所の温度に基づきプリント配線基板2及び搭載部品の温度を制御する。このことにより、同一プリント配線基板2上の複数箇所の温度を測定し、その平均値に基づきヒータを制御する。
請求項（抜粋）：
コンベアによりプリント配線基板を搬送し、熱風及びヒータにより加熱された炉内でプリント配線基板に塗布された半田を溶融し、設置されたチップ部品をプリント配線基板に半田付けするリフロー炉において、コンベアにより搬送されたプリント配線基板に対応して赤外線温度計のような放射温度計でコンベアの速度に応じて所定の時間間隔で温度を測定し、測定されたプリント配線基板上の複数箇所の温度に基づきプリント配線基板及び搭載部品の温度を制御するようにすることを特徴とするリフロー炉。
引用特許：
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