特許
J-GLOBAL ID:200903001736000360

露光装置、露光方法及びデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  西 和哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-293198
公開番号(公開出願番号):特開2008-147635
出願日: 2007年11月12日
公開日(公表日): 2008年06月26日
要約:
【課題】露光装置に液浸法を適用した場合において、基板を効率良く良好に露光できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置EXは、露光ビームELを射出する第1光学部材8と、第1光学部材の光射出側で移動可能な第1移動体1と、第1移動体1に設けられ、位置計測用の計測ビームが照射される斜面1Szを有する計測部材1Rzと、第1移動体1に設けられ、計測部材1Rzよりも外側に張り出す端面8Eを有し、計測ビームを透過可能な透過領域を有する透過部材81とを備える。露光装置に液浸法を適用した場合において、基板を効率良く良好に露光できる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板に露光ビームを照射して前記基板を露光する露光装置であって、 前記露光ビームを射出する第1光学部材と、 前記第1光学部材の光射出側で移動可能な第1移動体と、 前記第1移動体に設けられ、位置計測用の計測ビームが照射される斜面を有する計測部材と、 前記第1移動体に設けられ、前記第1移動体から前記計測部材よりも外側に張り出す端面を有し、前記計測ビームを透過可能な透過領域を有する透過部材と、を備えた露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件):
H01L21/30 515G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D
Fターム (4件):
5F046AA28 ,  5F046CC01 ,  5F046CC05 ,  5F046CC16
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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