特許

J-GLOBAL ID：200903001742929770

シリケート材料の形成方法

発明者： ホワード エダン カッツ
出願人/特許権者： ルーセント テクノロジーズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 三俣 弘文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-214299
公開番号（公開出願番号）：特開2001-055508
出願日： 2000年07月14日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：

【要約】【課題】 アニーリング、乾燥および溶媒交換に対して、純粋に単量体のシリケートから形成したものよりも安定な、シリコン含有率の高いシリケート材料を提供する。【解決手段】 シリケート領域および1つ以上の実質的非シリケート領域を含むシリケート材料は、あらかじめ硬化した(前硬化)樹脂と、好ましくは1種以上の樹脂プリカーサとを、テンプレート混合物と混合することによって生成される。テンプレート混合物は、好ましくは、1種以上の界面活性剤と、1種以上のアルコールと、水とを含む。前硬化樹脂は、好ましくは共溶媒および触媒の存在下で、1種以上のシリケート樹脂プリカーサを水と反応させることによって形成される。前硬化樹脂は、テンプレート混合物と、好ましくは追加量の1種以上のシリケートプリカーサと混合される。

請求項（抜粋）：

シリケート領域、および、1つ以上の実質的非シリケート領域を有するシリケート材料の形成方法において、テンプレート混合物を形成するステップと、1種以上のシリケート樹脂プリカーサを水と反応させることにより樹脂を前硬化するステップと、前硬化した樹脂および前記テンプレート混合物を含む最終樹脂混合物を形成するステップとを有することを特徴とする、シリケート材料の形成方法。

IPC (6件)：

C08L 83/02 ,  C08J 3/24 ,  C08J 3/28 ,  C08J 5/00 CFH ,  C08K 3/34 ,  C08K 5/00

FI (6件)：

C08L 83/02 ,  C08J 3/24 A ,  C08J 3/28 ,  C08J 5/00 CFH ,  C08K 3/34 ,  C08K 5/00