特許
J-GLOBAL ID：200903001743465611
抗菌または殺菌する方法及び残留塩素除去方法
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
牛木 護
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-024536
公開番号（公開出願番号）：特開2002-223738
出願日： 2001年01月31日
公開日（公表日）： 2002年08月13日
要約：
【要約】【課題】 抗菌・殺菌の効果を高めることができる抗菌または殺菌する方法を提供する。残留塩素除去効果を高める残留塩素除去方法を提供する。【解決手段】 銅を用いて抗菌または殺菌する方法において、前記銅を繊維状に形成することを特徴とする抗菌または殺菌する方法であり、銅イオンにより抗菌または殺菌することができる。銅を用いて残留塩素を除去する方法において、前記銅を繊維状に形成することを特徴とする残留塩素除去方法であり、銅イオンにより残留塩素の除去をすることができる。
請求項（抜粋）：
銅を用いて抗菌または殺菌する方法において、前記銅を繊維状に形成することを特徴とする抗菌または殺菌する方法。
IPC (4件)：
A23L 3/358
, A01N 25/34
, A01N 59/20
, C02F 1/58
A23L 3/358
, A01N 25/34 B
, A01N 59/20 Z
, C02F 1/58 L
4B021LA41
, 4B021LW02
, 4B021LW03
, 4B021MC01
, 4B021MK08
, 4B021MP10
, 4D038AB39
, 4H011AA02
, 4H011BB18
, 4H011DA10
