特許
J-GLOBAL ID:200903001769089650

パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-213393
公開番号(公開出願番号):特開2006-030897
出願日: 2004年07月21日
公開日(公表日): 2006年02月02日
要約:
【課題】 凹凸追従性に優れ、感光層の感度低下を抑制可能であると共に、該感光層が低温でラミネート可能であり、かつ、基体の予備加熱が不要となるため短時間で転写でき、しかもエッジフュージョン現象を抑制可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 【解決手段】 支持体上に、クッション層と感光層とを有し、該クッション層が分岐状ポリマーを含むことを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備え、光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、該パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置である。該感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
支持体上に、クッション層と感光層とを有し、該クッション層が分岐状ポリマーを含むことを特徴とするパターン形成材料。
IPC (3件):
G03F 7/11 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/20
FI (3件):
G03F7/11 503 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/20 505
Fターム (27件):
2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025CA01 ,  2H025CA14 ,  2H025CA18 ,  2H025CA28 ,  2H025CA30 ,  2H025CA39 ,  2H025CA48 ,  2H025CA50 ,  2H025CB42 ,  2H025CB52 ,  2H025DA33 ,  2H025DA40 ,  2H025EA08 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H097AB05 ,  2H097CA17 ,  2H097FA01 ,  2H097FA06 ,  2H097LA09
引用特許:
出願人引用 (6件)
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