特許
J-GLOBAL ID：200903001773977790
X線反射用ミラーおよびその製法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-233185
公開番号（公開出願番号）：特開平5-070267
出願日： 1991年09月12日
公開日（公表日）： 1993年03月23日
要約：
【要約】【目的】 粒界段差がミラー面に生じて表面粗さが粗くなるのを解決し、表面が超平滑で高反射率であり、耐熱衝撃性に優れたX線反射用ミラーおよびその製法を提供する。【構成】 再結晶質のSiC基材に多結晶のSiC膜をコーティングして研削加工および鏡面研磨し、再度その表面に単結晶またはアモルファスのSiC膜をコーティングして研磨加工により鏡面としたX線反射用ミラーの製法。
請求項（抜粋）：
多結晶のSiCの表面に、単結晶またはアモルファスのSiC膜をコーティングした構造を有することを特徴とするX線反射用ミラー。
IPC (4件)：
C04B 41/87
, C04B 35/56 101
, C30B 29/36
, G02B 5/08
