特許

J-GLOBAL ID：200903001779992642

電子ビーム加工によるシャドウマスクの製造方法

発明者： 大塚 芳直 ,  山崎 正 ,  今村 淳
出願人/特許権者： 大平洋特殊鋳造株式会社 ,  大平洋金属株式会社
代理人 (1件)： 萩原 康弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-117456
公開番号（公開出願番号）：特開平7-302542
出願日： 1994年05月09日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：

【要約】【目的】 電子ビーム穴明け加工法により、素材が大型で板厚が厚い場合でも、穴の断面形状が盃形で、かつ、壁面が平滑なカラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法を提供する。【構成】 金属板を穿孔するに際し、電子ビームの焦点位置を前記金属板に対し、アンダーフォーカスに保ちつつ電子ビームを照射すること、また、これに加え電子ビームの焦点距離を金属板に対し、-0.2〜-2.0mmに保ちつつ電子ビームを照射し、穴形状を丸形または長丸形とし、かつ、断面形状を盃形とすることを特徴とする。【効果】 シャドウマスクの穴断面形状として理想的な形状が得られる。

請求項（抜粋）：

電子ビーム穴明け加工法により、金属板を穿孔するに際し、電子ビームの焦点位置を前記金属板に対し、アンダーフォーカスに保ちつつ電子ビームを照射し、穴形状を丸形で、かつ、その断面形状を盃形に形成することを特徴とする電子ビーム加工によるシャドウマスクの製造方法。

IPC (3件)：

H01J 9/14 ,  B23K 15/00 503 ,  B23K 15/08