特許
J-GLOBAL ID:200903001797489966

電子加速装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-332048
公開番号(公開出願番号):特開2002-141195
出願日: 2000年10月31日
公開日(公表日): 2002年05月17日
要約:
【要約】【課題】 高周波を利用することによって、プラズマの生成と同時に加速電場を形成することができる電子加速装置を提供する。【解決手段】 プラズマソースガスが導入され、高真空状態に保持されるプラズマ生成空間と、このプラズマ生成空間内に高周波を導入するための高周波源とを備える電子ビーム発生部と、プラズマから発生した電子ビームを加速する電子ビーム加速部とを有する電子加速装置において、前記高周波源によって、電子ビームを加速するための加速電場を形成することを特徴とする電子加速装置。
請求項(抜粋):
プラズマソースガスが導入され、高真空状態に保持されるプラズマ生成空間と、このプラズマ生成空間内に高周波を導入するための高周波源とを備える電子ビーム発生部と、プラズマから発生した電子ビームを加速する電子ビーム加速部とを有する電子加速装置において、前記高周波源によって、電子ビームを加速するための加速電場を形成することを特徴とする電子加速装置。
IPC (3件):
H05H 7/18 ,  H05H 7/00 ,  H05H 9/00
FI (3件):
H05H 7/18 ,  H05H 7/00 ,  H05H 9/00 B
Fターム (11件):
2G085AA03 ,  2G085BA01 ,  2G085BA05 ,  2G085BA06 ,  2G085BA08 ,  2G085BA09 ,  2G085BB12 ,  2G085BB15 ,  2G085BB20 ,  2G085BE03 ,  2G085BE05

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