特許

J-GLOBAL ID：200903001802029642

半導体露光装置

発明者： 森山 茂夫 ,  伊東 昌昭 ,  寺澤 恒男 ,  片桐 創一 ,  瀬谷 英一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-143962
公開番号（公開出願番号）：特開平5-343283
出願日： 1992年06月04日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：

【要約】【目的】本発明の目的は、X線縮小露光法における高スル-プット化を可能とする露光装置を提供するものである。【構成】露光光学系の縮小率に相当する速度比でマスク1とウェハ6を同期走査しながら露光する装置において、同期走査時の両者の相対的位置誤差関係を常時検出し、検出された誤差に応じて露光光学系内部に設けた可動折り曲げ鏡5を可動させることによりマスク1とウェハ6の光学的位置関係を一定に保ちながら露光する。【効果】本発明によれば、マスクとウェハの同期走査制御に高い精度が要求されないため高速運転が可能となり、露光装置のスル-プットを向上させることができる。また、低コストのステ-ジ機構とすることもできる。

請求項（抜粋）：

マスク上の図形を投影光学系を用いてウェハ上に投影露光する露光装置において、マスクとウェハを所定の速度比をもって機械的に同期走査する手段と、上記所定の速度比をもって理想的に同期走査された場合のマスクとウェハの空間的相対的位置関係に対して実際のマスクとウェハの空間的相対的位置関係の誤差群を検出する手段と、上記検出された誤差群にもとづいて露光光学系の中心光軸の少なくとも一部を傾斜または平行変位させる手段、を含むことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521