特許
J-GLOBAL ID：200903001803509230
薄膜磁気ヘツド
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-315756
公開番号（公開出願番号）：特開平5-151528
出願日： 1991年11月29日
公開日（公表日）： 1993年06月18日
要約：
【要約】【目的】 磁気ディスク装置に用いる薄膜磁気ヘッドにおいて、2層以上の磁性膜からなる上部磁性層の段差を緩和して、保護層のボイドやクラックなどの欠陥がなく、記録能力を向上させ、信頼性を高くし、かつ記録減磁が生じないようにすることを目的とする。【構成】 上部絶縁層9によって形成した先端傾斜部の凹部あるいは平坦部に、ヘッド先端部に位置する上部磁性層10のバックコア部10-1のパターンエッジを埋設することにより、そのパターンエッジに発生するオーバーハングを緩和して、上部磁性層10上に形成する保護層11のボイドやクラックを防止できる。
請求項（抜粋）：
下部磁性層,導体層,絶縁層,磁気ギャップ層および2層以上の上部磁性層からなる薄膜磁気ヘッドであって、前記絶縁層のヘッド先端の傾斜部の一部に配設した凹部あるいは平坦部と、前記凹部あるいは平坦部に埋設した前記上部磁性層の先端部からみて後方に位置するバックコア部の起点を有する薄膜磁気ヘッド。
引用特許：
前のページに戻る
