特許
J-GLOBAL ID：200903001806501575
光導波路用組成物、光導波路、パッシブ光導波路、アクティブ光導波路及びその製造法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-226132
公開番号（公開出願番号）：特開平9-068620
出願日： 1995年09月04日
公開日（公表日）： 1997年03月11日
要約：
【要約】【課題】 耐熱性に優れた光導波路用組成物、耐熱性に優れた光導波路、光学特性の優れたパッシブ光導波路、光学特性、電気光学効果の優れたアクティブ光導波路及び耐熱性、光学特性、電気光学効果の優れたアクティブ光導波路の製造法を提供する。【解決手段】 含窒素複素環を含む繰り返し単位を有する高分子を含む光導波路用組成物、含窒素複素環を含む繰り返し単位を有する高分子を構成要素とする光導波路、下部クラッド層、コア層及び上部クラツド層から成る3層構造を有するパッシブ光導波路、下部クラッド層、コア層及び上部クラッド層から成る3層構造を有するアクティブ光導波路及び含窒素複素環を含む繰り返し単位を有する高分子中の電気光学材料を、加熱と外部場の力により、配向させることを特徴とするアクティブ光導波路の製造法。
請求項（抜粋）：
含窒素複素環を含む繰り返し単位を有する高分子を含む光導波路用組成物。
IPC (6件)：
G02B 6/12
, C08G 73/00 NTB
, C08L 79/00 LQZ
, G02B 6/13
, G02F 1/035
, G02F 1/313
G02B 6/12 N
, C08G 73/00 NTB
, C08L 79/00 LQZ
, G02F 1/035
, G02F 1/313
, G02B 6/12 M
, G02B 6/12 J
