特許

J-GLOBAL ID：200903001810822548

全芳香族ポリエステルの製造方法

発明者： 上 木 弘 美 ,  福 谷 健三郎 ,  高 田 敏 正 ,  瀧 本 和 幸
出願人/特許権者： 三井石油化学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-160371
公開番号（公開出願番号）：特開平5-005027
出願日： 1991年07月01日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：

【要約】【構成】本発明は、芳香族ジオール化合物と芳香族ジカルボン酸とをエステル化反応させて全芳香族ポリエステルを製造するに際して、例えば、原料として、パラヒドロキシ安息香酸、ビフェノール、4,4'- ジヒドロキシジフェニルエーテル、テレフタル酸、ジフェニルテレフタレートおよびジフェニルカーボネートを用い、また、好ましくは触媒として【化1】で表わされる化合物を用いることを特徴としている。【効果】本発明の方法では、製造過程で酢酸などが副生しないので、ポリエステル製造装置は腐食されない。また、得られる全芳香族ポリエステルは、曲げ弾性などの機械的特性、耐熱性等に優れ、しかも溶融成形可能である。

請求項（抜粋）：

芳香族ジオール化合物と芳香族ジカルボン酸とをエステル化反応させて全芳香族ポリエステルを製造するに際して、下記化合物(Y)と共に、下記化合物(A)と(B)、下記化合物(A)と(C)あるいは下記化合物(A)と(B)と(C)を用いることを特徴とする全芳香族ポリエステルの製造方法。下記式(Y) Ar51-OOC-Ar52-COO-Ar53 ・・・(Y)(式(Y)中、Ar51とAr53は、それぞれ独立に、フェニル基および水素の内から選ばれる基または原子であり、Ar52はフェニレン基であり、Ar51、Ar53およびAr52はアルキル基等の置換基を有していてもよい)、で表されるカルボン酸化合物。下記式(A)ROOC-Ar11-OH ・・・(A)(式(A)中、Rは水素またはフェニル基であり、Ar11は二価の芳香族炭化水素基であり、RまたはAr11はアルキル基等の置換基を有していてもよい)、で表される芳香族オキシカルボン酸。下記式(B)HO-Ar21-OH ・・・(B)(式(B)中、Ar21は芳香族基であり、アルキル基などの置換基を有していてもよい)、で表される芳香族ジオール。下記式(C)HO-Ar31-O-Ar31-OH ・・・(C)(式(C)中、Ar31はフェニレン基であり、アルキル基等の置換基を有していてもよい)で表される4,4'-ジヒドロキシジフェニルエーテル。

IPC (2件)：

C08G 63/60 NPS ,  C08G 63/85 NNP