特許

J-GLOBAL ID：200903001813333068

マイクロリソグラフィ投影露光装置および投影レンズのための測定装置

発明者： エーマン,アルブレヒト ,  ヴェークマン,ウルリヒ ,  ホーホ,ライナー ,  マルマン,イェルク ,  シュスター,カール・ハインツ
出願人/特許権者： カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー
代理人 (2件)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-548258
公開番号（公開出願番号）：特表2007-519238
出願日： 2005年01月13日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：

マイクロリソグラフィ投影露光装置は、液浸動作のために構成されている投影レンズ(20)を含む。この目的で、液浸液(34)が、像側の投影レンズ(20)の最終レンズ(L5;54)と露光される感光層(26)との間に位置する液浸空間(44)に導入される。液浸液(34)内で生じる温度勾配に起因する屈折率の変動を低減するために、投影露光装置(10)は伝熱要素(50;501;502;503;504)を含み、それにより液浸液(34)の区域は指定の様態で加熱または冷却される。

請求項（抜粋）：

マイクロリソグラフィ投影露光装置であって、 投影光(13)を生成する照明システム(12)と、 感光層(26)上にマスク(24)を結像させる、複数の光学素子(L1〜L5;54)を含む投影レンズ(20)と、 像側の投影レンズ(20)の最終光学素子(L5;54)と感光層(26)との間に形成され、液浸液(34)で満たされる液浸空間(44)と を備え、 液浸空間(44)の区域における温度を選択的に変えるための伝熱要素(50;501;502;503;504)を設けたことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 516E

Fターム (11件)：

5F046CB01 ,  5F046CB12 ,  5F046CB26 ,  5F046CC01 ,  5F046DA13 ,  5F046DA26 ,  5F046DB01 ,  5F046DB02 ,  5F046DB14 ,  5F046DC10 ,  5F046DC12

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 米国特許第4346164号明細書
  
• 国際公開第99/049504号パンフレット
  

審査官引用 (12件)

• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
• 特開平3-003222
  
• 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-156545   出願人：株式会社ニコン
• リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-300866   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ, カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-339510   出願人：キヤノン株式会社
• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-354931   出願人：キヤノン株式会社
• リトグラフ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-207959   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 投影対物レンズの意図された光学特性を設定する方法およびマイクロリソグラフィ投影露光装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-557843   出願人：カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー
• 液浸リソグラフィー方法および基板露光装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2006-527264   出願人：インフィネオンテクノロジーズアクチエンゲゼルシャフト
• 液浸リソグラフィー用投影対物レンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-358056   出願人：カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
• 露光装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-002058   出願人：キヤノン株式会社
• 露光装置及び露光方法、デバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-404386   出願人：株式会社ニコン