特許
J-GLOBAL ID：200903001821042641
ガス処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鍬田 充生 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-031281
公開番号（公開出願番号）：特開平6-000410
出願日： 1993年01月26日
公開日（公表日）： 1994年01月11日
要約：
【要約】【目的】 被処理ガス中に含まれる微粒子、タール、ニコチン、臭気成分などを、効率よく、しかも長期に亘り除去する。【構成】 ガス導入口1とガス排出口2とが形成されたケーシング3のガス流路5内に、上流側から下流側に向って、多孔質誘電体7、帯電フィルタ8、活性炭ハニカム9およびファン11が設けられている。多孔質誘電体7は、ポリウレタンフォームなどの多孔質誘電材の少なくとも一方の面に、電圧が印加可能な金属薄膜を配することにより形成できる。活性炭ハニカムには、酸、ヨウ素及び/又無機ヨウ化物を担持してもよい。【効果】 ガス流路5を通過する過程で、被処理ガス中の微粒子などは多孔質誘電体7及び帯電フィルタ8により略完全に捕捉される。そのため、活性炭ハニカム9にタールなどが付着することなく、長期に亘り脱臭効果を持続できる。
請求項（抜粋）：
ガス流路内に、電圧が印加可能な多孔質誘電体と活性炭ハニカムとが設けられているガス処理装置。
IPC (6件)：
B03C 3/14
, B01D 46/00
, B01D 53/02
, B01D 53/04
, B01D 53/34 116
, B03C 3/02
