特許

J-GLOBAL ID：200903001821646741

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-187597
公開番号（公開出願番号）：特開2000-019737
出願日： 1998年07月02日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 250nm以下、特に220nm以下の露光光源の使用時に、良好な感度、解像度及びレジストパターンを与え、かつこの組成物を有機溶媒に溶解後の塗液の保存安定性が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、(B)分子鎖の少なくとも一方の末端に、特定の構造式で表される基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性が増大する樹脂とを含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、(B)分子鎖の少なくとも一方の末端に下記構造式(1)で表される基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性が増大する樹脂とを含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。-X-R (1)(式中、Xは-R1 -、-S-R1 -、-O-R1 -、-NH-R1 -、-NR2 -R1 -、Rはアルコキシ基、水酸基、-COO-R2 、-CONH-R2 、-CONHSO2 -R2 、-CONH2 、R1 は炭素数1〜20の2価の炭化水素基、R2 はアルキル基を示す。)

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08L101/00 ,  C09D201/00 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08L101/00 ,  C09D201/00 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (32件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  4J002BF011 ,  4J002BG041 ,  4J002BG071 ,  4J002BG131 ,  4J002BH021 ,  4J002BK001 ,  4J002EV216 ,  4J002EV236 ,  4J002EV296 ,  4J002GP03 ,  4J038CG141 ,  4J038CH071 ,  4J038EA011 ,  4J038GA03 ,  4J038GA09 ,  4J038GA13 ,  4J038KA04 ,  4J038PA17 ,  4J038PB09

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ポリスチレン系高分子化合物及び化学増幅ポジ型レジスト材料並びにパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-299178   出願人：信越化学工業株式会社