特許

J-GLOBAL ID：200903001822170473

プラズマ処理装置、マッチングボックス及び給電線

発明者： 仲野 陽 ,  金 聖哲 ,  福田 航一 ,  笠間 泰彦 ,  小野 昭一 ,  大見 忠弘
出願人/特許権者： 株式会社フロンテック ,  アルプス電気株式会社 ,  大見 忠弘
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-345851
公開番号（公開出願番号）：特開平11-158641
出願日： 1997年11月30日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】【課題】 電力消費効率が高く、成膜速度が従来より速くかつ、より良質の膜の形成が可能なプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】 高周波電源1とプラズマ励起電極4との間に介在しこれら高周波電源1とプラズマ励起電極4との間のインピーダンスの整合を得る整合回路と、高周波電源1からの高周波電力を整合回路を通してプラズマ励起電極4へ供給する給電線3とを収納する導電体よりなるハウジング21の側壁を、給電線3に対して非平行に形成したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

高周波電源とプラズマ励起電極との間に介在しこれら高周波電源とプラズマ励起電極との間のインピーダンスの整合を得る整合回路と、前記高周波電源からの高周波電力を前記整合回路を通して前記プラズマ励起電極へ供給する給電線とを収納する導電体よりなるハウジングの側壁を、前記給電線に対して非平行に形成したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

C23C 16/50 ,  C23C 14/40 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

C23C 16/50 ,  C23C 14/40 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 R

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開平3-204925