特許
J-GLOBAL ID:200903001822764756
ナフタレンの水素化によるデカリンの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-073474
公開番号(公開出願番号):特開2004-277372
出願日: 2003年03月18日
公開日(公表日): 2004年10月07日
要約:
【課題】ナフタレンの水素化によるデカリンの製造に関して、低温・低圧、かつ高収率で、装置構成および製造工程共に簡便な方法を提供する。【解決手段】ナフタレンの水素化によるデカリンの製造方法であって、脱硫処理したナフタレンと脱硫処理した水素含有ガスを原料とし、触媒を用いて気相反応させることを特徴とするデカリンの製造方法。
請求項(抜粋):
ナフタレンの水素化によるデカリンの製造方法であって、脱硫処理したナフタレンと脱硫処理した水素含有ガスを原料とし、触媒を用いて気相反応させることを特徴とするデカリンの製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (8件):
4H006AA02
, 4H006AC11
, 4H006BA21
, 4H006BC10
, 4H006BE20
, 4H039CA40
, 4H039CB10
, 4H039CF10
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