特許

J-GLOBAL ID：200903001825387864

希土類金属錯体を含む光導波路

発明者： 今村 三郎 ,  伊澤 達夫
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-246245
公開番号（公開出願番号）：特開平5-088026
出願日： 1991年09月25日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：

【要約】【目的】 可視光域から近赤外光域にわたり低損失で、発光や増幅作用を示す希土類金属錯体を含む光導波路を提供することを目的とする。【構成】 本発明の光導波路はコア部がポリマからなるコア部と、該コア部を囲みコア部より低い屈折率を有するポリマからなるクラッド部とを有する光導波路において、前記コア部は下記一般式(I)【化10】(ただし、R1 およびR2 はそれぞれCn Y2n+1(Yは水素,重水素あるいはハロゲン原子、nは5以下の正の整数)で表されるアルキル基,重水素化アルキル基あるいはハロゲン化アルキル基またはC6 Y5 で表わされるフェニル基,重水素化フェニル基またはハロゲン化フェニル基であり、MはEr,PrおよびNdからなる群から選ばれた希土類金属原子である。)で表わされる希土類金属錯体を含むことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ポリマからなるコア部と、該コア部を囲みコア部より低い屈折率を有するポリマからなるクラッド部とを有する光導波路において、前記コア部は下記一般式(I)【化1】(ただし、R1 およびR2 はそれぞれCn Y2n+1(Yは水素,重水素あるいはハロゲン原子、nは5以下の正の整数)で表されるアルキル基,重水素化アルキル基あるいはハロゲン化アルキル基またはC6 Y5 で表わされるフェニル基,重水素化フェニル基またはハロゲン化フェニル基であり、MはEr,PrおよびNdからなる群から選ばれた希土類金属原子である。)で表わされる希土類金属錯体を含むことを特徴とする光導波路。

IPC (5件)：

G02B 6/00 391 ,  C08K 5/07 KAQ ,  C08L 33/04 LHV ,  C08L 83/14 LRT ,  G02B 6/12