特許
J-GLOBAL ID：200903001835230874
浸漬型基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-340707
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161678
出願日： 1993年12月08日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 処理槽内の滞留域をできるだけ少なくすることができる浸漬型基板処理装置を提供する。【構成】 保持棒20が処理槽11の底部近傍で、しかも処理液供給パイプ12,12で挟まれた底部中央部CRに位置し、隔壁体として機能する。このため、噴出孔15から噴出された処理液2は処理槽11の底部11bに沿って処理槽11の底部中央部CRに流れ、保持棒20に当たって流れ方向を上方向に変え、その結果処理槽11内で均一に循環される。
請求項（抜粋）：
処理液に基板を浸漬させることにより前記基板の表面処理を行なう浸漬型基板処理装置であって、前記処理液を貯留する処理槽と、相互に一定間隔を隔て平行な状態で前記処理槽の底部近傍位置に横設され、処理液を前記処理槽の前記底部とほぼ平行に、あるいは前記底部に向けて噴出するため各々の長手方向側面に形成された噴出孔を有する2本の処理液供給パイプと、前記処理槽の前記底部近傍で、しかも前記処理液供給パイプで挟まれた底部中央部に配置された隔壁体とを備え、前記隔壁体で前記噴出孔から噴出された処理液の流れ方向を上方向に変えるようにしたことを特徴とする浸漬型基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/10
