特許

J-GLOBAL ID：200903001862899441

スパッタ蒸着装置における基板の回転機構

発明者： 守越 広樹
出願人/特許権者： TDK株式会社
代理人 (1件)： 小林 邦雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-103860
公開番号（公開出願番号）：特開2005-290425
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：

【課題】 スパッタ蒸着装置の自公転機構は、機械的な駆動機構が非常に複雑であり、装置が非常にコスト高になる欠点が挙げられる。本願発明の目的は、公転するステージを有するスパッタ蒸着装置において、基板を載置する台座の自転機構を工業的に安価に実現することである。【解決手段】 公転ステージ上に基板を搭載したスパッタ蒸着装置において、該基板を載置する台座は、該ステージに対し回転自在に支持されており、該台座に設けられた棒状ピンがステージの周囲に設けられた固定ピンに衝合することにより、該台座が複数回回転する構成とした。【選択図】図2

請求項１：

公転ステージ上に基板を搭載したスパッタ蒸着装置において、該基板を載置する上部台座は、該ステージに対し回転自在に支持されており、該台座に設けられた突起がステージの周囲に設けられた突出部に衝合することにより、該台座が押されて回転することを特徴とするスパッタ蒸着装置。

IPC (1件)：

C23C14/34

FI (1件)：

C23C14/34 J

Fターム (4件)：

4K029DC00 ,  4K029JA02 ,  4K029JA03 ,  4K029JA08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• スパッタリング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-065501   出願人：アネルバ株式会社

審査官引用 (1件)

• スパッタリング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-065501   出願人：アネルバ株式会社