特許
J-GLOBAL ID:200903001864341596
排ガス浄化装置及びこれに用いる触媒担体
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-369955
公開番号(公開出願番号):特開2001-179054
出願日: 1999年12月27日
公開日(公表日): 2001年07月03日
要約:
【要約】【課題】HC吸着部材の下流側に配置された排ガス浄化触媒が活性化温度まで昇温する時間を短縮する。【解決手段】排ガス流路の上流側にHC吸着部材1を、その下流側に排ガス浄化触媒2を配置した排ガス浄化装置において、HC吸着部材1の排ガス流に対向する端面を円錐台形状とするとともに、その端面に開口しハニカム基材の内部に延びる孔部14を形成した。HC吸着部材1の上流側側端面に到達した排ガスはその比較的多くの部分が孔部14を通過するため、排ガスは速やかに下流側の排ガス浄化触媒2に到達し排ガス浄化触媒2を速やかに昇温する。
請求項(抜粋):
排ガス流路の上流側に排ガス中の炭化水素を吸着するHC吸着部材を配置し該HC吸着部材の下流側に貴金属を担持した排ガス浄化触媒を配置してなる排ガス浄化装置であって、該HC吸着部材は複数のハニカム通路をもちハニカム形状をなす基材と該基材に被覆されたHC吸着材とよりなり、排ガス流に対向する端面に開口して該基材の内部に延び該ハニカム通路の径より大きな径の孔部をもつことを特徴とする排ガス浄化装置。
IPC (4件):
B01D 53/94
, B01D 53/72
, F01N 3/08 ZAB
, F01N 3/28 301
FI (4件):
F01N 3/08 ZAB A
, F01N 3/28 301 P
, B01D 53/36 103 B
, B01D 53/34 120 D
Fターム (60件):
3G091AA02
, 3G091AA17
, 3G091AB02
, 3G091AB03
, 3G091AB05
, 3G091AB06
, 3G091AB10
, 3G091BA03
, 3G091BA14
, 3G091BA15
, 3G091BA19
, 3G091FA02
, 3G091FB02
, 3G091FB10
, 3G091FB11
, 3G091FB12
, 3G091FC07
, 3G091GA01
, 3G091GA06
, 3G091GA16
, 3G091GA21
, 3G091GB01X
, 3G091GB01Y
, 3G091GB04W
, 3G091GB04Y
, 3G091GB05W
, 3G091GB06W
, 3G091GB07W
, 3G091GB09Y
, 3G091GB10X
, 3G091GB10Y
, 3G091GB16X
, 3G091GB17X
, 3G091GB17Y
, 3G091HA20
, 3G091HA47
, 4D002AA40
, 4D002BA04
, 4D002CA07
, 4D002DA11
, 4D002DA21
, 4D002DA45
, 4D002DA46
, 4D002DA70
, 4D002EA08
, 4D002EA13
, 4D002GA01
, 4D002GB20
, 4D048AA06
, 4D048AA13
, 4D048AA18
, 4D048AB03
, 4D048AB05
, 4D048BA03X
, 4D048BA30X
, 4D048BA41X
, 4D048BB02
, 4D048CC21
, 4D048CC38
, 4D048CC51
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