特許
J-GLOBAL ID：200903001865139464
プロセスフロー生成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤谷 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-033005
公開番号（公開出願番号）：特開平8-264405
出願日： 1996年01月25日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：
【要約】【課題】流動中のロットに対して、処理や流動を停止させることなく、変更されたプロセスフローを適正な時期に反映させること。【解決手段】更新された品名固有フロー及び変更位置は、時間経過と共に更新される世代毎に区別して記憶される。品名固有フローのうち、そのロット固有フローに未だ反映されていない世代の品名固有フローであって、それらの世代の変更位置と注目ロットが存在する現在位置との位置関係に基づいて、ロット固有フローにその世代の品名固有フローを反映できるか否かが判定される。反映可能と判定された場合には、ロット固有フロー更新手段により、注目ロットに対するロット固有フローに反映可能と判定された各世代の品名固有フローの変更可能な変更部分が反映され、そのロット固有フローが更新される。これにより、未だ反映されていない世代の品名固有フローの変更可能な工程の更新が可能となる。
請求項（抜粋）：
製造すべき半導体装置の各品名毎に最小作業単位を示す工程名を処理順序に従って記述した品名固有フローに基づいて、ロット単位で流動させ処理を行うようにした半導体製造ラインに接続され、前記ロット毎に順次実行すべき工程を指令するための工程名を記述したロット固有フローを生成するプロセスフロー生成装置において、前記ロット毎に前記ロット固有フローを記憶するロット固有フロー記憶手段と、前記処理順序又は前記作業単位の内容の変更に伴って必要となる前記品名固有フローの更新に対して、相互に同期して変更を必要とする複数の工程名毎に更新し、ロットの流動順に関して最も最初に位置する変更工程の位置を変更位置として設定する品名固有フロー更新手段と、前記品名固有フロー更新手段により更新された品名固有フロー及び前記変更位置を、時間経過と共に更新される世代毎に区別して記憶する更新履歴記憶手段と、前記半導体製造ラインに新規に導入されるロットに対して、前記更新履歴記憶手段に記憶されている最新であってそのロットに対応する品名の品名固有フローを前記ロット固有フロー記憶手段に設定する初期設定手段と、流動中のある注目ロットに対する前記ロット固有フローの更新に際し、前記更新履歴記憶手段に記憶されている品名固有フローのうち、そのロット固有フローに未だ反映されていない世代の品名固有フローであって、それらの世代の変更位置と前記注目ロットが存在する現在位置との位置関係に基づいて、ロット固有フローにその世代の品名固有フローを反映できるか否かを判定する判定手段と、前記判定手段により反映可能と判定された場合には、前記注目ロットに対する前記ロット固有フローに反映可能と判定された各世代の品名固有フローの変更可能な変更部分を反映させてそのロット固有フローを更新するロット固有フロー更新手段とを有し、その更新された最新のロット固有フローに従って流動中のロットの工程を制御するようにしたことを特徴とするプロセスフロー生成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/02 Z
, G06F 15/21 R
