特許

J-GLOBAL ID：200903001867267583

排ガス中のジメチルスルホキシドの除去方法

発明者： 山下 安俊 ,  森谷 則正 ,  司城 武洋 ,  味沢 利行
出願人/特許権者： 協和化工株式会社
代理人 (1件)： 甲斐 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-342595
公開番号（公開出願番号）：特開平7-163841
出願日： 1993年12月14日
公開日（公表日）： 1995年06月27日
要約：

【要約】【目的】 IC処理に伴う排ガス中のジメチルスルホキシドを分解除去する。【構成】 排ガス中のジメチルスルホキシドを当量以上に過剰の次亜塩素酸ナトリウム水溶液で洗浄して分解する第1工程と、過剰の次亜塩素酸ナトリウム水溶液の硫化ナトリウム溶液により還元処理する第2工程とからなる。

請求項（抜粋）：

排ガス中のジメチルスルホキシドを、当量以上に過剰の次亜塩素酸ナトリウム水溶液で洗浄して分解する第1工程と、過剰の次亜塩素酸ナトリウムを硫化ナトリウム水溶液で還元処理する第2工程とからなる排ガス中のジメチルスルホキシドの除去方法。

IPC (2件)：

B01D 53/72 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (2件)：

B01D 53/34 120 D ,  B01D 53/34 ZAB