高繰返し数レーザを生成するプラズマEUV光源

発明者： , , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-503939
公開番号（公開出願番号）：特表2007-529869
出願日： 2005年03月03日
公開日（公表日）： 2007年10月25日
要約：

【課題】レーザ生成プラズマと、パルスレーザビームによる照射のために照射サイトに送出された固形粒子又は液滴又は液滴に埋め込まれた固形粒子の形態の個別のターゲットとを用いるEUV光の発生のためのシステムを提供する。【解決手段】選択パルス繰返し数で望ましいターゲット点火サイトに集束されるレーザパルスを供給するパルスレーザと、レーザパルス繰返し数に調整された選択間隔で個別のターゲットを供給するターゲット形成システムと、ターゲット形成システムと望ましいターゲット点火サイトとの中間にあるターゲットステアリングシステムと、ターゲットステアリングシステムがターゲットを望ましいターゲット点火サイトに向けることを可能にする、ターゲット形成システムとターゲットステアリングシステムとの間のターゲットの移動に関する情報を提供するターゲット追跡システムとを含むことができるEUV光源機器及び方法。ターゲット追跡システムは、レーザ発射制御信号の作成を可能にする情報を提供することができ、かつ、ターゲットの投射送出経路上の点と交差するように向けられた視準光源を含んでそれぞれの点を通るターゲットの通過を検出するそれぞれ対向配置の光検出器を有する液滴検出器、又は座標軸に整列した複数の感光素子の線形アレイを含む検出器を含むことができ、光源からの光は、ターゲットの投射送出経路と交差し、そのうちの1つは、平面遮断検出装置を含むことができる。液滴検出器は、各々が異なる光周波数で作動する複数の液滴検出器、又は視野と視野を撮像するピクセルの2次元アレイとを有するカメラを含むことができる。機器及び方法は、点火時にターゲット点火サイトで又はその近くにプラズマ封じ込み場をもたらす静電プラズマ封じ込み機器を含むことができ、ターゲット追跡システムは、静電プラズマ封じ込み機器の制御を可能にする信号を提供する。機器及び方法は、低圧トラップを備えた中間壁を有してEUV光の通過を可能にして低圧トラップにわたる差圧を維持する容器を含むことができる。機器及び方法は、パルス駆動されてターゲット追跡システムからの出力を用いて制御することができるプラズマをターゲット点火サイトに閉じ込めるための磁場をターゲット点火サイトの近くに作り出す磁気プラズマ封じ込み機構を含むことができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

望ましいターゲット点火サイトに集束させるレーザパルスを選択されたパルス繰返し数で供給するパルスレーザと、前記レーザパルス繰返し数に調整された選択された間隔で個別のターゲットを供給するターゲット形成システムと、前記ターゲット形成システムと前記望ましいターゲット点火サイトの中間にあるターゲットステアリングシステムと、前記ターゲット形成システムと前記ターゲットステアリングシステムの間のターゲットの移動に関する情報を提供し、該ターゲットステアリングシステムが該ターゲットを前記望ましいターゲット点火サイトに向けることを可能にするターゲット追跡システムと、を含むことを特徴とするEUV光源。

IPC (2件)：

H05G 2/00 , H01L 21/027

FI (2件)：

H05G1/00 K , H01L21/30 531S

Fターム (7件)：

4C092AA04 , 4C092AA05 , 4C092AA06 , 4C092AA15 , 4C092AC09 , 5F046GB09 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (10件)

米国特許出願出願番号第10/803,526号
米国特許出願出願番号第10/409,254号
米国特許第6,625,191号

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審査官引用 (7件)

中性ビームを制御することに基づく極紫外線源
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-586550 出願人：プレックス・エルエルシー
X線発生装置及びこれを備えた投影露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-231394 出願人：株式会社ニコン
極短波放射線を発生する方法、前記放射線によって装置を製造する方法、極短波放射線源装置およびこのような放射線源装置が装備されたリソグラフィ投影装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-549063 出願人：コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ

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