特許

J-GLOBAL ID：200903001878284706

基板処理装置の供給異常検知方法及びそれを用いた基板処理装置

発明者： 中島 泰剛
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 杉谷 勉 ,  戸高 弘幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-077169
公開番号（公開出願番号）：特開2008-235812
出願日： 2007年03月23日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：

【課題】薬液の供給を監視することにより、薬液の濃度測定系に異常が発生したことを精度よく検知することができる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】薬液の濃度測定系に異常があれば、アラーム値メモリ57に記憶されている、正常な状態で供給された時の一定時間内における供給量(正常値)と、供給量積算部63が算出する一定時間内における実績値との間に差が生じるので、判断部59はその比較に基づき異常の発生を判断できる。供給量積算部63は、濃度測定部53及び濃度制御部55の制御の下で所定時間内に薬液供給管39から供給される薬液の供給量を積算し、供給配管17を通して処理槽1に供給される処理液中の濃度を測定する濃度測定部53とは別系統であるので、濃度測定部53の不具合に関係なく、異常を正確に判断することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理液を基板に供給して処理を行う基板処理装置の供給異常検知方法において、 薬液供給手段により薬液が供給される供給配管の薬液濃度を濃度測定手段により測定しつつ処理液を供給する過程と、 所定時間内において、前記薬液供給手段からの供給量を積算して実績値として算出する過程と、 所定時間内において、薬液の供給が正常な状態で供給された場合の供給量にあたる正常値と、前記実績値との比較に基づいて異常の有無を判断する過程と、 を備えていることを特徴とする基板処理装置の供給異常検知方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

H01L21/304 648G ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/306 J

Fターム (31件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  5F043DD25 ,  5F043EE23 ,  5F043EE25 ,  5F043EE29 ,  5F043EE31 ,  5F157AB03 ,  5F157AB34 ,  5F157AB42 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BB02 ,  5F157BB04 ,  5F157BB66 ,  5F157CA12 ,  5F157CD04 ,  5F157CD32 ,  5F157CD34 ,  5F157CE10 ,  5F157CE32 ,  5F157CE36 ,  5F157CE37 ,  5F157CF42 ,  5F157CF50 ,  5F157CF54 ,  5F157CF56 ,  5F157DA81

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第3749422号公報(図1及び「0034」〜「0036」)