洗浄装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-362671
公開番号（公開出願番号）：特開2001-170574
出願日： 1999年12月21日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：

【要約】【課題】装置内の沈殿物を効率よく除去できる洗浄装置を提供すること。【解決手段】洗浄装置1は、洗浄液を用いて洗浄対象物であるワークを洗浄する装置である。洗浄装置1は、第2圧力調整手段35が接続された洗浄槽3と第1圧力調整手段45が接続された沈殿槽4とバッファ槽5と再生器6と貯留槽7とリンス槽8と配管とを有する循環ラインL10と、沈殿槽4に接続された廃液ラインL40と、乾燥槽9を有する乾燥ラインL90と、再生器沈殿槽接続ラインL60と、廃液器10を有する第2廃液ラインL100と、リンス槽バッファ槽接続ラインL80と、洗浄槽沈殿槽第2接続管49とで構成されている。

請求項（抜粋）：

洗浄液でワークを洗浄する洗浄槽と、該洗浄槽に通液可能に接続され、洗浄に供された洗浄液が含有する沈殿成分を沈殿させる沈殿槽とを有することを特徴とする洗浄装置。

IPC (2件)：

B08B 3/02 , B08B 3/08

FI (2件)：

B08B 3/02 C , B08B 3/08 Z

Fターム (8件)：

3B201AA46 , 3B201AB01 , 3B201BB04 , 3B201BB92 , 3B201CB15 , 3B201CC01 , 3B201CC11 , 3B201CD22

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-172579
洗浄機
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-114772 出願人：センサー・テクノロジー株式会社, 株式会社サバスエンジニアリング, デンヨー株式会社
特開昭63-310686

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