特許
J-GLOBAL ID：200903001894839017
平面型磁気素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-063453
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267085
出願日： 1992年03月19日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】コイル導体間スペースが狭い場合でも、絶縁膜を確実に充填することができ、エッチバックなどの技術を使用せずに表面の平坦化が可能であり、高性能の平面型磁気素子を簡単に製造することができる方法を提供する。【構成】磁性膜3上に絶縁膜4を介して導体膜5を形成し、導体膜5をパターンニングしてコイル導体7を形成し、コイル導体7の間隙および表面に液相酸化法により絶縁膜8を充填・被覆した後、絶縁膜8の表面に磁性膜9を形成する。
請求項（抜粋）：
磁性膜上に絶縁膜を介して導体膜を形成する工程と、該導体膜をパターンニングしてコイル導体を形成する工程と、コイル導体の間隙および表面に液相酸化法により絶縁膜を充填・被覆する工程と、該絶縁膜の表面に磁性膜を形成する工程とを具備したことを特徴とする平面型磁気素子の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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