特許

J-GLOBAL ID：200903001895957340

炭化水素改質方法

発明者： 野村 和弘 ,  伊藤 由彦 ,  山崎 清 ,  坂野 幸次
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-122876
公開番号（公開出願番号）：特開2005-306630
出願日： 2004年04月19日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：

【課題】H2の生成率を向上させるとともに、HC改質反応に要するエネルギー消費量を低減する。【解決手段】少なくともHC及びO2を含むガスをHC改質触媒に接触させることでHCを部分酸化するにあたり、触媒反応系をプラズマ状態とする。 触媒表面の活性酸素種をO2- ではなくO-とすることができると期待され、完全酸化反応を抑制しつつ発熱反応である部分酸化反応を進行させることができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

少なくとも炭化水素及び酸素を含むガスを炭化水素改質触媒に接触させることで炭化水素を部分酸化するにあたり、触媒反応系をプラズマ状態とすることを特徴とする炭化水素改質方法。

IPC (4件)：

C01B3/40 ,  B01J23/46 ,  B01J23/63 ,  B01J35/10

FI (5件)：

C01B3/40 ,  B01J23/46 311M ,  B01J35/10 301A ,  B01J35/10 301J ,  B01J23/56 301M

Fターム (50件)：

4G069AA03 ,  4G069AA12 ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069BC71A ,  4G069BC71B ,  4G069CC40 ,  4G069DA06 ,  4G069EA02Y ,  4G069EC02X ,  4G069EC02Y ,  4G069EC03X ,  4G069EC27 ,  4G069FA01 ,  4G069FA02 ,  4G069FB14 ,  4G069FB30 ,  4G069FB31 ,  4G140EA03 ,  4G140EA07 ,  4G140EB12 ,  4G140EC03 ,  4G140EC04 ,  4G140EC08 ,  4G169AA03 ,  4G169AA12 ,  4G169BA05A ,  4G169BA05B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC71A ,  4G169BC71B ,  4G169CC40 ,  4G169DA06 ,  4G169EA02Y ,  4G169EC02X ,  4G169EC02Y ,  4G169EC03X ,  4G169EC27 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB14 ,  4G169FB30 ,  4G169FB31

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 炭化水素の部分酸化用触媒及び該触媒を用いた水素含有ガスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-129121   出願人：株式会社日本触媒
• 低温プラズマによる合成ガスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-331620   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所