特許
J-GLOBAL ID:200903001905154992
基板の製造方法及びメッキ装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
奥田 誠 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-183126
公開番号(公開出願番号):特開2002-004098
出願日: 2000年06月19日
公開日(公表日): 2002年01月09日
要約:
【要約】【課題】 卑金属からなるメッキ層の表面に生じる変色や接合強度低下等の不具合を抑制することができる基板の製造方法及びメッキ装置を提供すること。【解決手段】 卑金属からなるメッキ層を備える基板1の製造方法は、基板1をメッキ槽33に浸漬して、卑金属からなるメッキ層を形成するメッキ浸漬工程と、基板1をメッキ槽33から取り出して移動させ、基板1を洗浄するメッキ洗浄工程とを備える。また、メッキ浸漬工程後、メッキ洗浄工程を行う位置まで移動する期間のうち少なくとも一部の期間中に、基板1に冷却液を掛けて、基板1を冷却する冷却工程とを備える。
請求項(抜粋):
卑金属からなるメッキ層を備える基板の製造方法であって、基板をメッキ槽に浸漬して、上記卑金属からなるメッキ層を形成するメッキ浸漬工程と、上記基板を上記メッキ槽から取り出して移動させ、上記基板を洗浄するメッキ洗浄工程と、上記メッキ浸漬工程後、上記メッキ洗浄工程を行う位置まで移動する期間のうち少なくとも一部の期間中に、上記基板に冷却液を掛けて、上記基板を冷却する冷却工程と、を備える基板の製造方法。
IPC (5件):
C25D 21/02
, C25D 5/48
, C25D 17/08
, C25D 21/12
, H05K 3/18
FI (6件):
C25D 21/02
, C25D 5/48
, C25D 17/08 E
, C25D 21/12 E
, H05K 3/18 G
, H05K 3/18 N
Fターム (21件):
4K024AA03
, 4K024AA11
, 4K024AB01
, 4K024BA09
, 4K024BB11
, 4K024BB13
, 4K024CB03
, 4K024CB19
, 4K024CB20
, 4K024DA06
, 4K024DB10
, 4K024GA02
, 4K024GA16
, 5E343AA01
, 5E343AA11
, 5E343BB44
, 5E343BB71
, 5E343DD43
, 5E343DD44
, 5E343FF16
, 5E343GG01
引用特許:
出願人引用 (1件)
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自動車内装用表面材
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-328207
出願人:高島屋日発工業株式会社
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