特許

J-GLOBAL ID：200903001909052728

フイルム型紫外線感光性レジスト及びパターン形成方法

発明者： 岩沢 直純
出願人/特許権者： 関西ペイント株式会社
代理人 (1件)： 小田島 平吉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-287146
公開番号（公開出願番号）：特開平6-118632
出願日： 1992年10月02日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：

【要約】【目的】 高解像度で、酸素による感光性の低下がなく、微細画像パターン形成能に優れたフイルム型紫外線感光性レジスト及びそのフイルムレジストを用いたパターン形成方法を提供する。【構成】 支持フイルム上に、常温で粘着性がなく、酸素遮断性を有し且つ現像液に可溶性の非感光性被膜層、常温で粘着性のある感光性被膜層を順次積層してなるフイルム型紫外感光性レジスト、及びそのフイルムレジストを用いたパターン形成方法。

請求項（抜粋）：

支持フイルム上に、常温で実質的に粘着性をもたず、酸素遮断性を有し且つ現像液に可溶性の非感光性被膜層及び常温で粘着性のある感光性被膜層を順次積層してなるフイルム型紫外線感光性レジスト。

IPC (3件)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/11 ,  H05K 3/06

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-213849
  
• 特開昭59-097138
  
• 特開平4-371957