光ディスク基板の射出成形方法及び射出成形装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柏木明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-110952
公開番号（公開出願番号）：特開平10-296795
出願日： 1997年04月28日
公開日（公表日）： 1998年11月10日
要約：

【要約】【課題】工程が移ってもスタンパが常に適切な吸引保持力によって保持される光ディスク基板の射出成形方法を得る。【解決手段】スタンパ8が取付けられるキャビティ面3に、環状の吸引保持溝12a,12b,12cを形成する。吸引保持溝12a,12b,12cはそれぞれ真空発生源14に連結され、吸引保持溝12a,12b,12cと真空発生源14との間には、真空発生源14により吸引保持溝12a,12b,12cに作用する吸引保持力を調節自在な圧力制御部15を設ける。スタンパ8の内周部は機械的に保持し、外周部は吸引保持力によって保持する。この際、吸引保持力は、圧力制御部15によって、各工程での適切な値に調節される。

請求項（抜粋）：

溶融した基板材料を充填するキャビティを形成する一対のキャビティ面のうち前記基板材料に転写すべき情報パターンを有するスタンパを取付ける方の前記キャビティ面に環状の吸引保持溝を設けこの吸引保持溝に接続した真空発生源が前記吸引保持溝に作用させる吸引保持力によって前記スタンパの外周部を吸引保持する射出成形装置を用いる光ディスク基板の射出成形方法において、前記吸引保持力を各工程ごとに最適値に調節するようにしたことを特徴とする光ディスク基板の射出成形方法。

IPC (3件)：

B29C 45/26 , B29C 45/76 , G11B 7/26 521

FI (3件)：

B29C 45/26 , B29C 45/76 , G11B 7/26 521

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