特許

J-GLOBAL ID：200903001912767061

レジスト組成物

発明者： 児玉 邦彦
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-110738
公開番号（公開出願番号）：特開2003-302754
出願日： 2002年04月12日
公開日（公表日）： 2003年10月24日
要約：

【要約】【課題】感度及び解像力が優れたレジスト組成物を提供する。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の脂環構造又は縮合芳香環構造を有するスルフォニウム化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。【化1】一般式(I)中、R1は、水素原子、アルキル基、アリール基、又はシアノ基を表す。Y1及びY2は、各々独立に、アルキル基、アリール基、アラルキル基、又は複素環基を表す。Y1とY2が結合して環を形成しても良い。Yは、縮合芳香環基又は複素環基を表す。Zは、単結合又は2価の連結基を表す。X-は、非求核性アニオンを表す。

IPC (4件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (17件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17