特許
J-GLOBAL ID：200903001914736066
プラズマ装備のシーズニング方法及びそのための装備
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-546819
公開番号（公開出願番号）：特表2007-515804
出願日： 2004年12月21日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
プラズマ装備のシーズニング方法及びそのための装備を提供する。本発明によるシーズニング方法は、プラズマ装備を稼動し、プラズマ工程を行う前に、プラズマ装備の工程室の内部に存在するシリコン酸化物系(SiOX)化学種とフッ化炭素系化合物(CFY)化学種の光学放射の強さ比を測定し、測定された強さ比の値が、予め実験的に設定された正常状態の範囲内であるか、或いは正常状態の範囲を外れるかを判断した後、判断の結果によって測定された強さ比の値が、正常状態の範囲内に切り換えられるように、工程室の内部にプラズマ工程に用いられる反応ガスを供給し、反応ガスの成分比を変化させ、強さ比が変化するようにし、工程室の内部を適宜シーズニングする。
請求項（抜粋）：
プラズマ装備を稼動してプラズマ工程を行う前に、前記プラズマ装備の工程室の内部に存在するシリコン酸化物系(SiOX)化学種とフッ化炭素系化合物(CFY)化学種の光学放射の強さ比を測定するステップと、
前記測定された強さ比の値が、設定された正常状態の範囲内であるか、或いは正常状態の範囲を外れるかを判断するステップと、
前記判断の結果によって、前記測定された強さ比の値が、前記正常状態の範囲内に切り換えられるように、前記工程室の内部に前記プラズマ工程に用いられる反応ガスを供給し、前記反応ガスの成分比を変化させ、前記強さ比が変化するようにし、前記工程室の内部をシーズニングするステップと、を含むことを特徴とするプラズマ装備のシーズニング方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L21/302 101H
, H01L21/302 103
5F004AA01
, 5F004AA15
, 5F004BA20
, 5F004CA07
, 5F004CA08
, 5F004CB02
, 5F004CB09
, 5F004DA01
, 5F004DA26
, 5F004DB03
