ゴムロールおよびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：宮崎昭夫 , 石橋政幸 , 緒方雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-245685
公開番号（公開出願番号）：特開2009-072877
出願日： 2007年09月21日
公開日（公表日）： 2009年04月09日
要約：

【課題】砥石の研削効率を向上させ、研削加工後のゴムロールの表面性が優れて外径形状異常がないゴムロールを得る。【解決手段】a)芯金軸と芯金軸の外周面に円筒状に設けられた加硫ゴムからなる弾性層とを有するゴムロールを用意する工程、b)芯金軸の両端の外周面をチャック機構によって把持固定しながらゴムロールを回転させる工程、c)工程dにおける研削加工時に発生する押し撓みを抑制するバックアップ装置を、砥石と対向する側から弾性層に押し当てる工程、d)弾性層の長さよりも幅の広い砥石を用い工程fより速い前進速度で砥石を弾性層に押し当てて弾性層を研削する工程、e)バックアップ装置を弾性層から離す工程、f)工程dより遅い前進速度で砥石を弾性層に押し当てて弾性層を研削する工程をこの順に有することを特徴とするゴムロールの製造方法。この方法で製造された電子写真用のゴムロール。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

a)芯金軸と該芯金軸の外周面に円筒状に設けられた加硫ゴムからなる弾性層とを有するゴムロールを用意する工程、 b)該芯金軸の両端の外周面を、チャック機構によって把持固定しながら該ゴムロールを回転させる工程、 c)工程dにおける研削加工時に発生する押し撓みを抑制するバックアップ装置を、該砥石と対向する側から該弾性層に押し当てる工程、 d)該弾性層の長さよりも幅の広い砥石を用い、工程fにおける前進速度より速い前進速度で該砥石を該弾性層に押し当てて該弾性層を研削する工程、 e)該バックアップ装置を該弾性層から離す工程、および、 f)工程dにおける前進速度より遅い前進速度で該砥石を該弾性層に押し当てて該弾性層を研削する工程をこの順に有することを特徴とするゴムロールの製造方法。

IPC (4件)：

B24B 5/50 , G03G 15/00 , G03G 15/02 , G03G 15/08

FI (4件)：

B24B5/50 Z , G03G15/00 550 , G03G15/02 101 , G03G15/08 501D

Fターム (27件)：

2H077AD06 , 2H077FA13 , 2H077FA21 , 2H171FA11 , 2H171FA13 , 2H171FA26 , 2H171GA01 , 2H171GA15 , 2H171JA04 , 2H171JA06 , 2H171PA02 , 2H171PA09 , 2H171UA03 , 2H171UA12 , 2H200FA13 , 2H200GA52 , 2H200HA02 , 2H200HA28 , 2H200HB45 , 2H200HB47 , 2H200LC02 , 2H200LC09 , 2H200MA03 , 2H200MC01 , 3C043AC16 , 3C043CC03 , 3C043DD06

引用特許：

出願人引用 (1件)

ゴムローラの研磨機及び研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-263353 出願人：株式会社オーテックメカニカル

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