特許
J-GLOBAL ID：200903001928833226
レジスト塗布方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
本庄 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-346534
公開番号（公開出願番号）：特開平5-179462
出願日： 1991年12月27日
公開日（公表日）： 1993年07月20日
要約：
【要約】【目的】被塗布物に付着する異物の排除と,微細なキズ部分へのレジスト充填をなすことのできるレジスト塗布方法を提供する。【構成】所定粘度に調合された所定粘度レジスト液11が貯溜された第1のレジスト槽1と,超音波加振装置3を備え,超低粘度に調合された低粘度レジスト液12が貯溜された第2のレジスト槽2とを設け,被塗布物9を第2のレジスト槽2,第1のレジスト槽1の順に浸漬させレジスト塗布を実行する。第2のレジスト槽2に浸漬された被塗布物9は,超音波振動とレジストを希釈した溶剤による洗浄効果とにより表面に付着した異物が除去されると共に,低粘度レジスト液12の高い浸透性により微細なキズ部分にもレジスト液が浸透し,次に所定粘度レジスト液11に浸漬されたとき濡れ性が向上しているため,キズ部分にレジストが充填されやすくなる。
請求項（抜粋）：
所定粘度に調合された所定粘度レジスト液内に被塗布物を浸漬させたのち定速度で引き上げ,前記被塗布物にレジストを塗布するレジスト塗布方法において,前記所定粘度レジスト液より低い粘度に調合された低粘度レジスト液内に被塗布物を浸漬させた状態で前記低粘度レジスト液または被塗布物を加振した後引き上げ、その後前記被塗布物を前記所定粘度レジスト液に浸漬させてレジストを塗布することを特徴とするレジスト塗布方法。
IPC (6件)：
C23F 1/00 102
, B05D 1/18
, B05D 1/36
, G03F 7/16
, H01L 21/027
, H05K 3/06
