特許
J-GLOBAL ID：200903001936441981

光伝送路形成用材料、光伝送路および光伝送路の製造方法

発明者：
岡崎 文彰

岡崎 文彰 について

, 
佐藤 信之

佐藤 信之 について


出願人/特許権者：
京セラケミカル株式会社

京セラケミカル株式会社 について


代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-290512
公開番号（公開出願番号）：特開2004-123922
出願日： 2002年10月02日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
【課題】光伝送路の製造においては、製造工程が少なく、より簡単な方法で製造することが求められている。また、光伝送路の光伝送損失を低減することも求められている。【解決手段】光伝送路が、主として下記化学式(2)で示されるフォトクロミックポリマー【化14】(但し、mは1以上の整数を示し、R1およびR2は水素原子、1価の炭化水素基、または、炭素原子もしくは水素原子の一部が酸素、窒素および硫黄の中から選択された原子で置換された1価の置換炭化水素基を示す)からなるもの。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
主として下記化学式(1)で示されるフォトクロミックモノマー
IPC (3件)：
C08F220/36 ,  C09K9/02 ,  G02B6/12
FI (3件)：
C08F220/36 ,  C09K9/02 B ,  G02B6/12 N
Fターム (14件)：
2H047KA03 ,  2H047PA02 ,  2H047PA15 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA41 ,  4J100AL74P ,  4J100BA11P ,  4J100BC65P ,  4J100CA01 ,  4J100DA61 ,  4J100FA03 ,  4J100JA32 ,  4J100JA37
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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