特許
J-GLOBAL ID：200903001952548605
位置合わせ方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-311133
公開番号（公開出願番号）：特開平5-152187
出願日： 1991年11月27日
公開日（公表日）： 1993年06月18日
要約：
【要約】【目的】 N(N≧2なる整数)枚のウエハ毎に、ウエハ上に形成された複数の露光領域の各々を露光位置に対して順次位置合わせする際、ウエハ毎のアライメント精度のばらつきを低減する。【構成】 統計演算によって算出される6つのパラメータを用いてk(2≦k≦Nなる整数)枚目のウエハ上の複数の露光領域の各々の配列座標値を算出する際、6つの誤差パラメータのうち、複数の露光領域の配列の変形に関する特定誤差パラメータSCX、SCY、ORTについては、1枚目からk枚目までのウエハ毎に算出された特定誤差パラメータSCXi、SCYi、ORTiを用いて決定する。さらに、この決定された特定誤差パラメータSCXk'、SCYK'、ORTK'及びk枚目のウエハにおける誤差パラメータROTk 、STXk 、STYk を用いて配列座標値を算出し、この算出された配列座標値に従ってステージ10を移動することによりウエハWk上の各露光領域を露光位置に位置合わせする。
請求項（抜粋）：
N(N≧2なる整数)枚の基板毎に、該基板に設計上の配列座標に従って2次元的に形成された複数の被加工領域の各々を前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の基準位置に対して位置合わせするにあたって、前記複数の被加工領域のうち、予め選択された少なくとも3つの被加工領域の前記静止座標系上における座標位置を計測し、該計測された複数の座標位置を統計演算することによって、前記基板上の複数の被加工領域の各々の前記静止座標系上における座標位置を算出し、該算出された複数の被加工領域の各々の座標位置に従って前記基板の移動位置を制御することによって、前記複数の被加工領域の各々を前記基準位置に対して順次位置合わせする方法において、前記統計演算によって算出される複数のパラメータを用いてk(2≦k≦Nなる整数)枚目の基板上の複数の被加工領域の各々の座標位置を算出する際、前記複数のパラメータのうち、少なくとも前記複数の被加工領域の配列の変形を表す特定パラメータについては、1枚目からk枚目までの基板毎に算出された特定パラメータのうち、k枚目の基板を含む少なくとも2枚の基板の各々における特定パラメータを用いて決定することとし、該決定された特定パラメータを含む前記複数のパラメータに基づいて前記複数の被加工領域の各々の座標位置を算出することにより、前記k枚目の基板上の複数の被加工領域の各々を前記基準位置に対して位置合わせすることを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 311 M
, H01L 21/30 311 H
