特許
J-GLOBAL ID：200903001953518858
アクティブマトリクス基板、その製造方法、及び、該基板を用いたイメージセンサ
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-045034
公開番号（公開出願番号）：特開2000-323698
出願日： 2000年02月22日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：
【要約】【課題】 信号線における信号伝達遅延および画素間のクロストークの発生を防止することが可能なアクティブマトリクス基板、およびその製造方法を、工程数の増加を伴うことなく提供すること。該アクティブマトリクス基板を用いてなるイメージセンサを提供すること。【解決手段】 画素容量電極を兼ねる画素容量配線14と信号線11とは、同一の電極層をパターニングすることにより互いに平行に形成される。すなわち、画素容量配線14の形成のために追加の工程を必要としない。また該構成によれば、画素容量配線14と信号線11とが互いに平行であるため信号線における信号伝達遅延および画素間のクロストークの発生を防止することができる。該アクティブマトリクス基板は、例えば液晶表示装置やイメージセンサ等のアクティブマトリクス基板として好適に使用できる。
請求項（抜粋）：
格子状に配された複数の走査線および信号線により形成される画素毎に画素電極が設けられ、上記走査線と信号線との交差部近傍に位置し、走査線、信号線および、画素電極それぞれに接続されたスイッチング素子と、上記画素電極との間に蓄積容量を形成すべく設けられた蓄積容量電極と、信号線と平行に配された蓄積容量共通配線とを備えたアクティブマトリクス基板において、上記信号線と、蓄積容量電極および蓄積容量共通配線とが、同一の電極層をパターニングすることにより形成されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
IPC (8件)：
H01L 27/146
, G02F 1/1368
, G09F 9/30 338
, H01L 27/14
, H01L 29/786
, H01L 21/336
, H04N 5/335
, H04N 1/028
H01L 27/14 C
, G09F 9/30 338
, H04N 5/335 U
, H04N 1/028 Z
, G02F 1/136 500
, H01L 27/14 K
, H01L 29/78 612 D
