特許

J-GLOBAL ID：200903001960334363

ディスク処理装置

発明者： 左近 祐之
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-154032
公開番号（公開出願番号）：特開平11-353647
出願日： 1998年06月03日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】 磁気ディスク表面にむらの発生がなく均一で、従って、記録・再生特性の優れた磁気ディスクの処理装置の提供。【解決手段】 基板上に磁気記録層を形成する磁気ディスクの製造工程で使用されるディスク処理装置において、ディスクを処理する回転体の軸受けをセラミックスで形成したことを特徴とするディスク処理装置。

請求項（抜粋）：

基板上に磁気記録層を形成する磁気ディスクの製造工程で使用されるディスク処理装置において、ディスクを処理する回転体の軸受けをセラミックスで形成したことを特徴とするディスク処理装置。

IPC (3件)：

G11B 5/84 ,  B08B 1/04 ,  B08B 7/04

FI (3件)：

G11B 5/84 Z ,  B08B 1/04 ,  B08B 7/04 A