特許

J-GLOBAL ID：200903001967935540

触媒CVD装置

発明者： 樋口 永
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-126848
公開番号（公開出願番号）：特開平6-338491
出願日： 1993年05月28日
公開日（公表日）： 1994年12月06日
要約：

【要約】【目的】 円筒状基体に良好な膜質のa-Si系膜を形成できる、電子写真感光体用の触媒CVD装置を提供する。また、一度に複数個の平板状基体または円筒状基体にa-Si系膜を形成できる、量産性に優れた電子写真感光体用の触媒CVD装置を提供する。【構成】 内周面にガス吹き出し孔32を有する容器22の内部に、それぞれ大小の径を有する筒状の熱触媒体25と基体支持体23とを中心軸がほぼ同一となるように配設すると共に、上記熱触媒体25をガスが透過する構造と成し、上記基体支持体23の外周面に被成膜用基体24を設け且つ内側に基体温度設定手段を付設して成ることを特徴とする触媒CVD装置。

請求項（抜粋）：

内周面にガス吹き出し孔を有する容器の内部に、それぞれ大小の径を有する筒状の熱触媒体と基体支持体とを中心軸がほぼ同一となるように配設すると共に、上記熱触媒体をガスが透過する構造と成し、上記基体支持体の外周面に被成膜用基体を設け且つ内側に基体温度設定手段を付設して成る触媒CVD装置。

IPC (6件)：

H01L 21/31 ,  B41J 2/385 ,  C23C 16/44 ,  G03G 5/08 360 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/04

FI (2件)：

B41J 3/16 101 ,  H01L 31/04 V