特許
J-GLOBAL ID：200903001982364100
露光用マスク及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
竹村 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-089589
公開番号（公開出願番号）：特開平5-257264
出願日： 1992年03月14日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：
【要約】【目的】 パタ-ンの種類やパタ-ン寸法に対する露光状態の依存性を低減し、転写装置の解像限界を向上させると共に一定の光量で忠実なパタ-ン転写できる露光マスクおよびその製造方法を提供する。【構成】 この露光マスクは、ステッパ-などの露光装置に用いられる。マスクは、透明のガラス基板1とその表面に形成された金属酸化膜30の遮光膜からなる。この遮光膜は、所定の光透過率を有し、露光用の光の位相をシフトできるという特徴を持っている。この遮光膜は、金属膜を透明基板1に堆積させ、これを熱酸化して酸化膜30を形成する。透過光の位相をシフトするので、光の強度分布の幅がシャ-プになる。
請求項（抜粋）：
透明基板と、この透明基板上に形成され、所定の光透過率を有し、露光照射する光の位相をシフトさせる金属酸化物の遮光膜から構成されているマスクパタ-ンとを備えていることを特徴とする露光用マスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
