特許

J-GLOBAL ID：200903001986282736

磁気記録媒体の製造方法

発明者： 諸石 圭二 ,  佐藤 孝 ,  堀川 順一 ,  河合 久雄 ,  小林 正人 ,  野澤 順
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-347842
公開番号（公開出願番号）：特開平8-227525
出願日： 1995年12月15日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：

【要約】【目的】 保磁力やS/N比等の記録媒体の特性向上を図ることのできる磁気記録媒体の製造方法を提供する。【構成】 インライン型スパッタ装置を用いて基板上に少なくとも、一以上の下地層2、CoPtを主成分とする磁性膜3、非磁性膜4およびCoPtを主成分とする磁性膜5からなる磁性層を順次形成する磁気記録媒体の製造方法であって、磁性層と接する下地膜2cおよび/または非磁性膜4を低スパッタ電力で成膜する。また、その際、各膜の組成やスパッタ条件を制御して、各膜の結晶格子間隔差を所定の範囲とする。

請求項（抜粋）：

基板を搬送しつつ複数配列されたスパッタターゲットの配列順に順次成膜を行うインライン型スパッタ装置を用いて、基板上に少なくとも、一以上の下地層と、CoPtを主成分とする合金からなる磁性膜、Crを主成分とする合金からなる非磁性膜およびCoPtを主成分とする合金からなる磁性膜とからなる磁性層とを順次形成する磁気記録媒体の製造方法であって、磁性層と接する下地層および/または非磁性膜を100〜1000Wの範囲の低スパッタ電力で成膜することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (5件)：

G11B 5/85 ,  C23C 14/14 ,  C23C 14/34 ,  G11B 5/66 ,  G11B 5/84

FI (7件)：

G11B 5/85 C ,  C23C 14/14 G ,  C23C 14/14 F ,  C23C 14/34 V ,  C23C 14/34 R ,  G11B 5/66 ,  G11B 5/84 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 磁気記録媒体及び磁気記憶装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-329154   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平4-232613