特許
J-GLOBAL ID:200903001986325532

光露光システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-266048
公開番号(公開出願番号):特開平10-112429
出願日: 1996年10月07日
公開日(公表日): 1998年04月28日
要約:
【要約】【課題】 光露光システムの集光器や反射鏡,レンズ,およびフォトマスクなどの露光用の紫外線が通過する光学部品の劣化を防止して、露光システムの維持管理を容易にすることを目的とする。【解決手段】 レンズ1表面に表面コーティング2を施し、その上に触媒膜3を配置するようにした。表面コーティング2は、光の反射をなくすために形成された多層膜のコーティングである。また、触媒膜3は二酸化チタンからなり、二酸化チタンのバンドギャップエネルギー(約3.2eV)以上のエネルギーの光が照射されると励起され、その表面では強い酸化作用や還元作用が生じる。
請求項(抜粋):
紫外線を露光光として用いてフォトマスク上に形成されたパタンをウエハ上に転写する光露光システムにおいて、前記紫外線が通過する経路に配置された光透過性を有する部品表面に、光触媒作用を有する触媒膜を備えたことを特徴とする光露光システム。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2件):
H01L 21/30 503 Z ,  G03F 7/20 521

前のページに戻る