特許

J-GLOBAL ID：200903001987868963

石英ガラスの製造方法

発明者： 高野 潤 ,  中川 和博 ,  小峯 典男 ,  神保 宏樹 ,  平岩 弘之
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-022294
公開番号（公開出願番号）：特開平6-234531
出願日： 1993年02月10日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：

【要約】【目的】 不純物濃度が低く、かつ屈折率の均質性の高い石英ガラスの製造方法を提供することを目的とする。【構成】Si化合物ガスとO2ガスとH2ガスとをバーナー1から噴出して燃焼させ、ターゲット3上に石英ガラスを堆積しインゴット7を形成する石英ガラスの製造方法において、インゴット7のヘッド部の温度分布を計測して得られた情報によりバーナー1とインゴット7とをXYステージを用いて相対的に平面移動させ、インゴットの温度分布を屈折率の均質性に最適なものとする。

請求項（抜粋）：

Si化合物ガスとO2ガスとH2ガスとをバーナーから噴出して燃焼させ、ターゲット上に石英ガラスを堆積しインゴットを形成する石英ガラスの製造方法において、前記インゴットのヘッド部の温度分布に応じて前記バーナーと前記インゴットとを相対的に平面移動させることを特徴とする石英ガラスの製造方法。

IPC (3件)：

C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  H01L 21/027